-
德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500
产品描述 系统配置:编号设备配置具体指标1晶片尺寸8",使用载盘可以适用于2", 3", 4", 6" 晶圆, 以及小片样品)2等离子源PTSA ICP等离子源13.56 MHz, 功率1200 W
-
牛津仪器Etch刻蚀工艺
-
德国Sentech等离子刻蚀机ICP-RIE SI 500
-
德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
-
德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
-
牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
-
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
-
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高刻蚀速率腔刻蚀
-
Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685
ALT 327,为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
-
德国SENTECH等离子刻蚀机 SI 591
SI 591特别适用于采用氟基和氯基气体的工艺,可以通过预真空室和电脑控制的等离子工艺系统实现。SI 591的特点是占地空间小,高度灵活性,例如,SI 591可作为单一反应腔系统集成在多腔系统中。
-
1.
沃特世国产液质联用系统首发,持续加码本土化布局
-
2.
安捷伦推出新型光谱流式细胞仪NovoCyte Opteon
-
3.
总投资539.82亿元 贵州发布第一批大规模设备更新清单
-
4.
浙大328亿排第二!全国高校2024年度预算经费出炉,24所高校破百亿
-
5.
42个领域 北京2024年首批设备购置与更新改造贷款贴息项目开始申报
-
6.
拉曼光谱仪2024Q1市场分析| 科研之光VS监管之盾的双重选择
-
7.
8分委 187人 国家药监局成立化妆品标准化技术委员会
-
8.
京津冀协同发展丨东丽经开区强链补链引人才,盘活资产启新程
-
9.
2024年第一季度食品安全监督抽检结果公布 农药残留超标占比近一半
-
10.
中国第一,全球第五!丹东百特上榜“世界工业新闻”年度报告
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net